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1、前言靶材是濺射源的一種。通過多弧的離子態(tài)鍍膜系統(tǒng)或不同形態(tài)不同方式的鍍膜系統(tǒng)，或者是利用磁場控制濺射在嚴格可控的工藝以及一定的實驗條件下，濺射在不同功能的基板上形成各種功能薄膜的濺射源。本文提到的ITO靶材，屬于一種極為重要的N型半導(dǎo)體材料，利用不同功率密度、不同輸出波形的激光與ITO靶材相互作用時，會

一、產(chǎn)品名稱：鈦環(huán)、鈦合金環(huán)、鈦合金鍛件1、材質(zhì)國內(nèi)：TA1、TA2、TA3、TA4、TA9、TA10、TC4美標：GR1、GR2、GR3、GR4、GR5、GR7、GR11、GR12、GR23;國標：GB/T 16598-1996美標：ASTM B348，ASTM B381，AMS 49282、規(guī)格外徑φ（200~400）*內(nèi)徑φ（100~300）*高度（20~120） 外徑φ（400~700）*內(nèi)徑φ（150~500

一、產(chǎn)品名稱：鈦加工件規(guī)格：外徑(100～800mm) 內(nèi)徑(40～100mm)×高度 按圖紙/客戶要求加工狀態(tài)：熱鍛、機械加工牌號：TA1、TA2、TA7、TA9、TA10、TC4、TC11執(zhí)行標準：GB/T16598、ASTM B381、 ASM 4928交貨狀態(tài)：退火狀態(tài)（M） 熱加工態(tài)（R） 冷加工態(tài)（Y）(退火，超生波探傷)包裝：采用木箱 扎帶 泡沫紙 紙箱 編織袋等符合

一、產(chǎn)品名稱：TA1鈦靶、TA2鈦靶、鈦靶材材 質(zhì)：Ti純 度：99.9%-99.99%牌號：TA1、TA2晶 粒 度：<100um規(guī)格：可以按照用戶需要定制應(yīng)用領(lǐng)域：鈦靶材廣泛應(yīng)用于電子、五金、鐘表、眼鏡、首飾、刀具、模具、玩具、廚具、器皿、機械、真空鍍膜等行業(yè)。純鈦靶的特性：①利用物理氣相沉積鍍膜，增加工具表面強度。②使用純金屬

引言隨著我國工業(yè)技術(shù)發(fā)展及新技術(shù)的引進，管道的腐蝕問題是影響現(xiàn)代工業(yè)發(fā)展的一個極為嚴重的破壞因素，工礦化工等企業(yè)的管道腐蝕所引起跑、冒、滴、漏除影響著正常生產(chǎn)外，還降低了產(chǎn)品質(zhì)量、污染環(huán)境、浪費能源及提高了安全隱患出現(xiàn)的幾率，上述問題的長期存在嚴重阻礙了我國工業(yè)化發(fā)展進度。所以一種具備耐腐蝕、高強度

在微電子半導(dǎo)體集成電路，薄膜混合集成電路， 片式元器件，特別是光盤、磁盤及液晶平面顯示器 LCD等技術(shù)領(lǐng)域 需使用各種性能各異，要求不同的濺射靶材，例如各種光碟、液晶顯示器LCD及LSI等的產(chǎn)品數(shù)量已十分巨大，僅以我國臺灣為例， 其CD -R 在1999年就生產(chǎn)約17.7億片，2000年的產(chǎn)量將達到47億片，CD-RW片2000年將達到18 億